Bahan Kimia Elektronik Asam Hidroklorat G4

Bahan Kimia Elektronik Asam Hidroklorat G4

Revisi Dokumen: 01
Tanggal Penerbitan: 02-09-2026
Standar yang Berlaku: Kelas SEMI G4 (Bahan Kimia Basah Semikonduktor Ultra-Kemurnian Tinggi)

Identifikasi Produk

 

Barang

Spesifikasi

Nama Produk

G4 Asam Hidroklorat

Kategori Produk

Bahan Kimia Basah Elektronik Semikonduktor

Nama Kimia

Asam Hidroklorik

Rumus Kimia

HCl

Nomor CAS.

7647-01-0

Berat Molekul

36.46

Nomor PBB

1789

Nilai

SEMI G4 Ultra-Kelas Elektronik dengan Kemurnian Tinggi

 

Ikhtisar Produk

 

G4 Hydrochloric Acid adalah asam anorganik dengan kemurnian tinggi-yang dimurnikan secara khusus untuk fabrikasi wafer semikonduktor dan manufaktur mikroelektronika tingkat lanjut. Diproduksi melalui proses pemurnian ultra-, filtrasi-kontaminasi rendah, dan proses pengisian-ruangan bersih, produk ini memiliki ion logam yang sangat-rendah, pengotor anionik, dan partikel-mikro, yang sepenuhnya mematuhi spesifikasi industri SEMI G4.


Ini adalah bahan kimia basah inti untuk proses ujung depan semikonduktor, yang secara efektif menghilangkan kontaminan logam, residu ionik, dan kotoran oksida pada permukaan wafer. Kontrol pengotor yang ketat menghilangkan-risiko kontaminasi mikro, memastikan hasil tinggi dan kinerja stabil untuk proses manufaktur chip tingkat lanjut.


Penampilan:Cairan tidak berwarna, transparan dan bening dengan sedikit bau menyengat

 

Spesifikasi Teknis (Standar SEMI G4)

 

Barang Tes

Spesifikasi

Uji HCl

36,0 ~ 38,0% berat

Penampilan

Cairan transparan tidak berwarna & bening

Warna (APHA)

Kurang dari atau sama dengan 10

Kepadatan @ 20 derajat

1,18 ~ 1,19 gram/cm³

Residu Penguapan

Kurang dari atau sama dengan 50 ppb

Jejak Logam Individu (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Masing-masing kurang dari atau sama dengan 10 ppb

Sulfat (SO₄²⁻)

Kurang dari atau sama dengan 50 ppb

Nitrat (NO₃⁻)

Kurang dari atau sama dengan 50 ppb

Klorin Gratis (Cl₂)

Kurang dari atau sama dengan 50 ppb

Fosfat (PO₄³⁻)

Kurang dari atau sama dengan 30 ppb

Partikel Lebih besar dari atau sama dengan 0,2μm

Kurang dari atau sama dengan 100 buah/mL

 

Catatan:Semua data pengujian didasarkan pada COA (Certificate of Analysis) spesifik batch.

 

Aplikasi (Proses Basah Semikonduktor)

 

Pembersihan Permukaan Wafer:Menghilangkan sisa ion logam, kontaminan anorganik, dan lapisan oksida permukaan pada wafer silikon, meningkatkan kebersihan permukaan wafer untuk proses etsa dan pengendapan selanjutnya.

Etsa Basah Semikonduktor:Digunakan untuk pengetsaan mikro yang presisi pada bahan berbasis silikon-dan substrat semikonduktor majemuk dengan laju pengetsaan yang stabil dan efek pemrosesan yang seragam.

Persiapan Solusi Proses:Merumuskan solusi campuran pembersihan dan etsa untuk proses pembersihan RCA, yang sesuai dengan persyaratan manufaktur front-end semikonduktor tingkat lanjut.

Proses Pengemasan & MEMS Tingkat Lanjut:Perawatan permukaan dan penghilangan kotoran untuk perangkat MEMS, pengemasan chip, dan pemrosesan komponen mikroelektronik.

 

Standar Pengemasan & Pengisian

 

Jenis Kemasan:Bersihkan-drum bersegel HDPE kelas / tas jinjing bersih IBC

Spesifikasi Umum:Drum kecil 25kg / 30kg, tas jinjing IBC 1000kg

Mengisi Lingkungan:Kamar bersih kelas 1000, nol kontaminasi sekunder, pengenalan partikel dan pengotor yang dikontrol dengan ketat

Standar Penyegelan:Kemasan tertutup-tahan asam profesional, anti-penguapan, dan anti-kebocoran

 

Penyimpanan & Umur Simpan

 

● Simpan di gudang bahan kimia yang sejuk, kering, berventilasi, dan khusus, tetap tertutup rapat, jauh dari sinar matahari langsung, suhu tinggi, dan sumber panas.

● Isolasi dari zat alkali, oksidan, dan bahan kimia organik untuk menghindari reaksi kimia dan kontaminasi.

● Hindari penempatan-terbuka dalam jangka panjang untuk mencegah kerusakan yang mudah menguap dan penyerapan kotoran.

● Umur Simpan: 12 bulan pada kondisi penyimpanan tertutup standar

 

Penanganan & Tindakan Pencegahan Keselamatan

 

● Asam klorida bersifat korosif dan mudah menguap. Operator harus mengenakan APD lengkap: sarung tangan-tahan asam, kacamata pelindung bahan kimia, celemek-tahan korosi, dan pakaian pelindung.

● Beroperasi di lingkungan yang berventilasi; hindari menghirup gas yang mudah menguap dan kontak langsung dengan kulit dan mata.

● Operasi pengenceran: tambahkan asam secara perlahan ke dalam air, jangan pernah menambahkan air ke dalam asam klorida pekat untuk mencegah percikan dan cedera.

● Jika terjadi kontak atau kebocoran, ikuti panduan darurat SDS untuk pembersihan dan pembuangan tepat waktu.

● Untuk klasifikasi bahaya selengkapnya, peraturan transportasi, dan-tindakan pertolongan pertama, lihat dokumen resmi SDS.

 

Jaminan Kualitas

 

Setiap batch Asam Hidroklorat G4 diproduksi dan diperiksa sesuai dengan standar internasional SEMI G4. Setiap pengiriman disertai dengan COA batch resmi. Semua proses produksi, pemurnian, dan pengisian mengadopsi kontrol kontaminasi-ruangan bersih yang ketat untuk memastikan kualitas produk yang stabil dan konsisten untuk aplikasi manufaktur semikonduktor kelas atas.

 

Spesifikasi asam klorida

 

Nama Produk

Nilai

Massa molekul relatif

Rumus molekul

Asam klorida

Bahan kimia elektronik G4

36.46

HCl

 

Periksa item

Spesifikasi

Periksa item

Spesifikasi

Penampilan

Larutan hidrogen klorida berair transparan tidak berwarna

Nikel (Ni), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Pengujian (HCl), %

36.0~38.0

Tembaga (Cu), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Kromatisitas, satuan Hazen

Kurang dari atau sama dengan 10

Seng (Zn), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Residu pembakaran (basis sulfat), ppm

Kurang dari atau sama dengan 3

Galium (Ga), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

klorin (Cl) yang tersedia gratis, ppb

Kurang dari atau sama dengan 100

Germanium (Ge), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Amonium (NH₄), hal

Kurang dari atau sama dengan 100

Arsenik (As), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Sulfat (SO₄), hal

Kurang dari atau sama dengan 100

Stantium (Sr), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Sulfit (SO₂), hal

Kurang dari atau sama dengan 100

Zirkonium (Zr), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Fosfat (PO₄), hal

Kurang dari atau sama dengan 100

Niobium (Nb), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Litium (Li), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Molibdenum (Mo), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Berilium (Menjadi), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Perak (Ag), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Boron (B), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Kadmium (Cd), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Natrium (Na), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Timah (Sn), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Magnesium (Mg), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Barium (Ba), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Aluminium (Al), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Tantalum (Ta), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Kalium (K), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Emas (Au), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Kalsium (Ca), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Talium (Tl), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Titanium (Ti), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Timbal (Pb), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Vanadium (V), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Bismut (Bi), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Kromium (Cr), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,2μm), pcs/mL

Kurang dari atau sama dengan 300

Mangan (Mn), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,3μm), pcs/mL

Kurang dari atau sama dengan 100

Besi (Fe), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,5μm), pcs/mL

Kurang dari atau sama dengan 5

Cobalt (Co), ppt

Kurang dari atau sama dengan 100

Akhir Laporan

-

 

Tag populer: bahan kimia elektronik asam klorida g4, Cina bahan kimia elektronik g4 produsen asam klorida, pemasok, pabrik

Kirim permintaan