Identifikasi Produk
|
Barang |
Spesifikasi |
|
Nama Produk |
G4 Asam Hidroklorat |
|
Kategori Produk |
Bahan Kimia Basah Elektronik Semikonduktor |
|
Nama Kimia |
Asam Hidroklorik |
|
Rumus Kimia |
HCl |
|
Nomor CAS. |
7647-01-0 |
|
Berat Molekul |
36.46 |
|
Nomor PBB |
1789 |
|
Nilai |
SEMI G4 Ultra-Kelas Elektronik dengan Kemurnian Tinggi |
Ikhtisar Produk
G4 Hydrochloric Acid adalah asam anorganik dengan kemurnian tinggi-yang dimurnikan secara khusus untuk fabrikasi wafer semikonduktor dan manufaktur mikroelektronika tingkat lanjut. Diproduksi melalui proses pemurnian ultra-, filtrasi-kontaminasi rendah, dan proses pengisian-ruangan bersih, produk ini memiliki ion logam yang sangat-rendah, pengotor anionik, dan partikel-mikro, yang sepenuhnya mematuhi spesifikasi industri SEMI G4.
Ini adalah bahan kimia basah inti untuk proses ujung depan semikonduktor, yang secara efektif menghilangkan kontaminan logam, residu ionik, dan kotoran oksida pada permukaan wafer. Kontrol pengotor yang ketat menghilangkan-risiko kontaminasi mikro, memastikan hasil tinggi dan kinerja stabil untuk proses manufaktur chip tingkat lanjut.
Penampilan:Cairan tidak berwarna, transparan dan bening dengan sedikit bau menyengat
Spesifikasi Teknis (Standar SEMI G4)
|
Barang Tes |
Spesifikasi |
|
Uji HCl |
36,0 ~ 38,0% berat |
|
Penampilan |
Cairan transparan tidak berwarna & bening |
|
Warna (APHA) |
Kurang dari atau sama dengan 10 |
|
Kepadatan @ 20 derajat |
1,18 ~ 1,19 gram/cm³ |
|
Residu Penguapan |
Kurang dari atau sama dengan 50 ppb |
|
Jejak Logam Individu (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Masing-masing kurang dari atau sama dengan 10 ppb |
|
Sulfat (SO₄²⁻) |
Kurang dari atau sama dengan 50 ppb |
|
Nitrat (NO₃⁻) |
Kurang dari atau sama dengan 50 ppb |
|
Klorin Gratis (Cl₂) |
Kurang dari atau sama dengan 50 ppb |
|
Fosfat (PO₄³⁻) |
Kurang dari atau sama dengan 30 ppb |
|
Partikel Lebih besar dari atau sama dengan 0,2μm |
Kurang dari atau sama dengan 100 buah/mL |
Catatan:Semua data pengujian didasarkan pada COA (Certificate of Analysis) spesifik batch.
Aplikasi (Proses Basah Semikonduktor)
Pembersihan Permukaan Wafer:Menghilangkan sisa ion logam, kontaminan anorganik, dan lapisan oksida permukaan pada wafer silikon, meningkatkan kebersihan permukaan wafer untuk proses etsa dan pengendapan selanjutnya.
Etsa Basah Semikonduktor:Digunakan untuk pengetsaan mikro yang presisi pada bahan berbasis silikon-dan substrat semikonduktor majemuk dengan laju pengetsaan yang stabil dan efek pemrosesan yang seragam.
Persiapan Solusi Proses:Merumuskan solusi campuran pembersihan dan etsa untuk proses pembersihan RCA, yang sesuai dengan persyaratan manufaktur front-end semikonduktor tingkat lanjut.
Proses Pengemasan & MEMS Tingkat Lanjut:Perawatan permukaan dan penghilangan kotoran untuk perangkat MEMS, pengemasan chip, dan pemrosesan komponen mikroelektronik.
Standar Pengemasan & Pengisian
Jenis Kemasan:Bersihkan-drum bersegel HDPE kelas / tas jinjing bersih IBC
Spesifikasi Umum:Drum kecil 25kg / 30kg, tas jinjing IBC 1000kg
Mengisi Lingkungan:Kamar bersih kelas 1000, nol kontaminasi sekunder, pengenalan partikel dan pengotor yang dikontrol dengan ketat
Standar Penyegelan:Kemasan tertutup-tahan asam profesional, anti-penguapan, dan anti-kebocoran
Penyimpanan & Umur Simpan
● Simpan di gudang bahan kimia yang sejuk, kering, berventilasi, dan khusus, tetap tertutup rapat, jauh dari sinar matahari langsung, suhu tinggi, dan sumber panas.
● Isolasi dari zat alkali, oksidan, dan bahan kimia organik untuk menghindari reaksi kimia dan kontaminasi.
● Hindari penempatan-terbuka dalam jangka panjang untuk mencegah kerusakan yang mudah menguap dan penyerapan kotoran.
● Umur Simpan: 12 bulan pada kondisi penyimpanan tertutup standar
Penanganan & Tindakan Pencegahan Keselamatan
● Asam klorida bersifat korosif dan mudah menguap. Operator harus mengenakan APD lengkap: sarung tangan-tahan asam, kacamata pelindung bahan kimia, celemek-tahan korosi, dan pakaian pelindung.
● Beroperasi di lingkungan yang berventilasi; hindari menghirup gas yang mudah menguap dan kontak langsung dengan kulit dan mata.
● Operasi pengenceran: tambahkan asam secara perlahan ke dalam air, jangan pernah menambahkan air ke dalam asam klorida pekat untuk mencegah percikan dan cedera.
● Jika terjadi kontak atau kebocoran, ikuti panduan darurat SDS untuk pembersihan dan pembuangan tepat waktu.
● Untuk klasifikasi bahaya selengkapnya, peraturan transportasi, dan-tindakan pertolongan pertama, lihat dokumen resmi SDS.
Jaminan Kualitas
Setiap batch Asam Hidroklorat G4 diproduksi dan diperiksa sesuai dengan standar internasional SEMI G4. Setiap pengiriman disertai dengan COA batch resmi. Semua proses produksi, pemurnian, dan pengisian mengadopsi kontrol kontaminasi-ruangan bersih yang ketat untuk memastikan kualitas produk yang stabil dan konsisten untuk aplikasi manufaktur semikonduktor kelas atas.
Spesifikasi asam klorida
|
Nama Produk |
Nilai |
Massa molekul relatif |
Rumus molekul |
|
Asam klorida |
Bahan kimia elektronik G4 |
36.46 |
HCl |
|
Periksa item |
Spesifikasi |
Periksa item |
Spesifikasi |
|
Penampilan |
Larutan hidrogen klorida berair transparan tidak berwarna |
Nikel (Ni), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Pengujian (HCl), % |
36.0~38.0 |
Tembaga (Cu), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kromatisitas, satuan Hazen |
Kurang dari atau sama dengan 10 |
Seng (Zn), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Residu pembakaran (basis sulfat), ppm |
Kurang dari atau sama dengan 3 |
Galium (Ga), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
klorin (Cl) yang tersedia gratis, ppb |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Germanium (Ge), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Amonium (NH₄), hal |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Arsenik (As), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Sulfat (SO₄), hal |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Stantium (Sr), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Sulfit (SO₂), hal |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Zirkonium (Zr), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Fosfat (PO₄), hal |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Niobium (Nb), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Litium (Li), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Molibdenum (Mo), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Berilium (Menjadi), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Perak (Ag), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Boron (B), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Kadmium (Cd), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Natrium (Na), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Timah (Sn), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Magnesium (Mg), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Barium (Ba), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Aluminium (Al), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Tantalum (Ta), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kalium (K), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Emas (Au), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kalsium (Ca), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Talium (Tl), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Titanium (Ti), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Timbal (Pb), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Vanadium (V), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Bismut (Bi), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kromium (Cr), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,2μm), pcs/mL |
Kurang dari atau sama dengan 300 |
|
Mangan (Mn), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,3μm), pcs/mL |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Besi (Fe), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,5μm), pcs/mL |
Kurang dari atau sama dengan 5 |
|
Cobalt (Co), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Akhir Laporan |
- |
Tag populer: bahan kimia elektronik asam klorida g4, Cina bahan kimia elektronik g4 produsen asam klorida, pemasok, pabrik

