Identifikasi Produk
|
Barang |
Isi |
|
Nama Produk |
G4 Asam Sulfat |
|
Kategori |
Bahan Kimia Elektronik Basah Semikonduktor |
|
Nama Kimia |
Asam sulfat |
|
Rumus Kimia |
\\(\\boldsymbol{H_2SO_4}\\) |
|
Nomor CAS. |
7664-93-9 |
|
Berat Molekul |
98.08 |
|
Standar Kelas |
Kelas SEMI G4 |
Deskripsi Produk
4 Asam Sulfat adalah asam anorganik kuat dengan kemurnian sangat-tinggi-yang diproduksi untuk fabrikasi wafer semikonduktor tingkat lanjut. Diproduksi melalui proses pemurnian khusus dan penyaringan ultra-halus, produk ini memiliki pengotor logam yang sangat-jejak rendah-dan tingkat partikel terkontrol, sesuai dengan spesifikasi SEMI G4. Ini banyak digunakan untuk pembersihan wafer, pengupasan photoresist, penghilangan residu organik, dan perawatan permukaan dalam manufaktur IC, sehingga meminimalkan risiko kontaminasi untuk proses-mikro-elektronik hasil yang kritis.
Penampilan:Cairan berminyak bening tidak berwarna, tidak berbau.
Spesifikasi Teknis (Standar SEMI G4)
|
Barang Tes |
Spesifikasi |
|
Pengujian (\\(H_2SO_4\\)) |
96,0 ~ 98,0% berat |
|
Penampilan |
Cairan berminyak tidak berwarna & bening |
|
Warna (APHA) |
Kurang dari atau sama dengan 10 |
|
Kepadatan @ 20 derajat |
1,83-1,85 gram/cm³ |
|
Residu Penguapan |
Kurang dari atau sama dengan 100 ppb |
|
Partikel Lebih besar dari atau sama dengan 0,2 μm |
Kurang dari atau sama dengan 100 buah/mL |
|
Jejak logam individu (Al, Fe, Cu, Na, K, Ca, Mg, Zn, Ni, Cr dll.) |
Masing-masing kurang dari atau sama dengan 10 ppb |
|
Klorida (\\(Cl^-\\)) |
Kurang dari atau sama dengan 100 ppb |
|
Nitrat (\\(NO_3^-\\)) |
Kurang dari atau sama dengan 200 ppb |
|
Fosfat (\\(PO_4^{3-}\\)) |
Kurang dari atau sama dengan 200 ppb |
Aplikasi
1. Pembersihan wafer semikonduktor, menghilangkan kontaminan organik, residu partikel, dan kotoran logam.
2. Proses pengupasan photoresist untuk pembuatan IC.
3.Persiapan larutan-kimia basah campuran untuk proses front-semikonduktor.
4. Perawatan permukaan untuk pengemasan tingkat lanjut, perangkat MEMS.
Kemasan
● Drum HDPE 330 kg
● Tas jinjing IBC 1500kg
● Tangki kontainer ISO 20MT (massal)
Diisi di-lingkungan ruangan yang bersih untuk menghindari kontaminasi sekunder.
Penyimpanan & Masa Simpan-
● Simpan di gudang yang sejuk, kering,-berventilasi baik, tetap tertutup rapat, jauh dari kelembapan, panas, dan bahan yang tidak kompatibel.
● Hindari sinar matahari langsung.
● Umur simpan-: 12 bulan pada kondisi penyimpanan yang disarankan.
Keterangan Penanganan & Keselamatan
● Bahan korosif yang kuat. Kenakan APD-tahan asam (kacamata, sarung tangan-tahan asam, celemek) selama pengoperasian.
● Selalu tambahkan asam secara perlahan ke dalam air; jangan pernah menuangkan air ke dalam asam sulfat pekat (reaksi eksotermik kuat).
● Lihat SDS yang sesuai untuk mengetahui informasi lengkap tentang bahaya,-pertolongan pertama, penanganan tumpahan, dan panduan transportasi.
Jaminan Kualitas
Setiap pengiriman harus disertai dengan Sertifikat Analisis (COA) khusus batch. Semua prosedur produksi dan pengisian mengikuti kontrol-ruangan bersih untuk memenuhi persyaratan kontaminasi SEMI G4.
Sertifikat Analisis
|
Nama Produk |
Nilai |
Massa molekul relatif |
Rumus molekul |
|
Asam sulfat |
Bahan kimia elektronik G4 |
98.07 |
H2JADI4 |
|
Periksa item |
Spesifikasi |
Periksa item |
Spesifikasi |
|
Penampilan |
Cairan transparan tidak berwarna |
Nikel (Ni), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Pengujian (H2SO4), % |
Lebih besar dari atau sama dengan 96,0 |
Tembaga (Cu), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kromatisitas, satuan Hazen |
Kurang dari atau sama dengan 10 |
Seng (Zn), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Residu pembakaran (sebagai belerang), ppm |
Kurang dari atau sama dengan 2 |
Galium (Ga), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Klorida (Cl), hal |
Kurang dari atau sama dengan 50 |
Germanium (Ge), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Nitrat (NO3), hal |
Kurang dari atau sama dengan 50 |
Arsenik (As), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Garam amonium (NH4), ppb |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Strontium (Sr), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Zat tereduksi kalium permanganat (sebagaiSO2), ppm |
Kurang dari atau sama dengan 2 |
Zirkonium (Zr), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Litium (Li), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Niobium (Nb), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Berilium (Menjadi), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Molibdenum (Mo), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Boron (B), endapan |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Perak (Ag), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Natrium (Na), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Kadmium (Cd), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Magnesium (Mg), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Timah (Sn), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Aluminium (Al), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Barium (Ba), endapan |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kalium (K), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Tantalum (Ta), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kalsium (Ca), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Emas (Au), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Titanium (Ti), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Talium (Tl), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Vanadium (V), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Timbal (Pb), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kromium (Cr), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Bismut (Bi), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Mangan (Mn), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,2μm), jumlah/mL |
Kurang dari atau sama dengan 300 |
|
Besi (Fe), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,3μm), jumlah/mL |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
|
Kobalt (Co), ppt |
Kurang dari atau sama dengan 100 |
Partikel (Lebih besar dari atau sama dengan 0,5μm), jumlah/mL |
Kurang dari atau sama dengan 5 |
Tag populer: bahan kimia elektronik asam sulfat g4, Cina bahan kimia elektronik g4 produsen asam sulfat, pemasok, pabrik