Identifikasi Produk
|
Barang |
Spesifikasi |
|
Nama Produk |
G4 Asam Hidrofluorat (HF) |
|
Kategori Produk |
Bahan Kimia Basah Elektronik Semikonduktor |
|
Nama Kimia |
Asam Hidrofluorat |
|
Rumus Kimia |
HF |
|
Nomor CAS. |
7664-39-3 |
|
Berat Molekul |
20.01 |
|
Nomor PBB |
1790 |
|
Nilai |
SEMI G4 Ultra-Kelas Elektronik dengan Kemurnian Tinggi |
Ikhtisar Produk
G4 Hydrofluoric Acid adalah asam anorganik berbasis-fluorin-kemurnian tinggi yang dimurnikan secara eksklusif untuk fabrikasi wafer semikonduktor tingkat lanjut dan manufaktur mikroelektronika. Dengan mengadopsi pemurnian-ultra-tahap multi-tahap, filtrasi-bebas korosi, dan teknologi pengisian ruangan-bersih Kelas 1000, produk ini memiliki kandungan logam yang sangat-rendah, pengotor anionik, dan konten-partikel mikro, yang sepenuhnya mematuhi standar internasional SEMI G4 yang ketat.
Sebagai bahan kimia basah pembersih dan pengetsaan selektif inti dalam proses front-end semikonduktor, bahan ini menunjukkan selektivitas pengetsaan yang sangat baik untuk lapisan oksida silikon sekaligus menyebabkan kerusakan minimal pada substrat silikon dan film nitrida. Kontrol pengotor yang ketat secara efektif menghindari-kontaminasi mikro dan cacat wafer, memastikan hasil yang tinggi dan-stabilitas jangka panjang untuk proses manufaktur chip tingkat lanjut.
Penampilan:Cairan mudah menguap tidak berwarna, jernih dan transparan
Spesifikasi Teknis (Standar SEMI G4)
|
Barang Tes |
Spesifikasi |
|
Uji HF |
48,5 ~ 49,5% berat |
|
Penampilan |
Cairan transparan tidak berwarna & bening |
|
Warna (APHA) |
Kurang dari atau sama dengan 5 |
|
Kepadatan @ 20 derajat |
1,15 ~ 1,18 gram/cm³ |
|
Residu Penguapan |
Kurang dari atau sama dengan 30 ppb |
|
Jejak Logam Individu (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Masing-masing kurang dari atau sama dengan 10 ppb |
|
Asam Fluosilicic (H₂SiF₆) |
Kurang dari atau sama dengan 10 ppm |
|
Sulfat (SO₄²⁻) |
Kurang dari atau sama dengan 30 ppb |
|
Nitrat (NO₃⁻) |
Kurang dari atau sama dengan 30 ppb |
|
Klorida (Cl⁻) |
Kurang dari atau sama dengan 30 ppb |
|
Partikel Lebih besar dari atau sama dengan 0,2μm |
Kurang dari atau sama dengan 100 buah/mL |
Catatan:Semua data pengujian didasarkan pada COA (Certificate of Analysis) spesifik batch.
Aplikasi (Proses Basah Semikonduktor)
Penghapusan Oksida Asli Wafer:Secara selektif menghilangkan oksida silikon asli dan kontaminan sisa oksida pada permukaan wafer silikon tanpa merusak substrat silikon, mengoptimalkan kondisi permukaan untuk proses pengendapan, litografi, dan etsa.
Etsa Selektif Presisi:Digunakan untuk pengetsaan halus lapisan dielektrik SiO₂, lapisan oksida gerbang, dan lapisan film tipis dalam manufaktur IC, menampilkan keseragaman pengetsaan yang tinggi dan kemampuan pengendalian proses yang sangat baik untuk memastikan transfer pola yang tepat.
Proses Pembersihan Basah RCA:Berfungsi sebagai komponen utama larutan pembersih RCA yang dimodifikasi untuk menghilangkan partikel-mikro, kotoran ionik, dan residu organik pada permukaan wafer, sehingga meningkatkan kebersihan wafer secara keseluruhan.
Proses Pengemasan & MEMS Tingkat Lanjut:Diterapkan untuk perawatan permukaan,-pengetsaan mikro, dan penghilangan kotoran pada perangkat MEMS, sensor semikonduktor, dan komponen pengemasan chip canggih, beradaptasi dengan-persyaratan manufaktur mikroelektronik presisi tinggi.
Standar Pengemasan & Pengisian
Jenis Kemasan:Drum bersegel HDPE-tahan korosi-berlapis / bersih-kelas HDPE, kemasan bahan kimia HF khusus
Spesifikasi Umum:Drum kecil 25kg / 30kg, tas jinjing IBC tahan korosi 1000kg
Mengisi Lingkungan:Ruang bersih kelas 1000, sistem produksi dan pengisian-bebas korosi penuh, tanpa kontaminasi sekunder
Standar Penyegelan:Struktur khusus anti-mudah menguap dan anti-kebocoran, secara ketat mencegah kehilangan yang mudah menguap dan kontaminasi eksternal
Penyimpanan & Umur Simpan
● Simpan di gudang kimia fluor khusus yang sejuk, kering, dan berventilasi, tetap tertutup rapat, jauh dari sinar matahari langsung, suhu tinggi, dan sumber panas.
● Isolasi secara ketat dari produk kaca, zat alkali, oksidan, dan bahan logam untuk menghindari korosi kimia dan reaksi tidak valid.
● Melarang penyimpanan-terbuka jangka panjang untuk mencegah kerusakan yang mudah menguap dan kontaminasi penyerapan kelembapan.
● Umur Simpan:12 bulan dalam kondisi penyimpanan tertutup standar
Penanganan & Tindakan Pencegahan Keselamatan
● Asam fluorida sangat korosif dan mudah menguap. Operator harus mengenakan APD pendukung profesional: sarung tangan-tahan fluorida, kacamata pelindung kimia yang tertutup rapat, celemek-tahan korosi, dan pakaian pelindung.
● Semua pengoperasian harus dilakukan di lemari asam profesional; hindari menghirup gas yang mudah menguap dan kontak langsung dengan kulit, mata dan selaput lendir.
● Selama pengenceran dan pemberian dosis, tambahkan asam secara perlahan ke dalam air deionisasi; jangan pernah menambahkan air ke dalam asam fluorida pekat untuk mencegah percikan dan kecelakaan keselamatan.
● Tindakan pertolongan pertama-khusus harus segera dilakukan jika terjadi kontak atau kebocoran yang tidak disengaja, dan ikuti panduan pembuangan darurat SDS dengan ketat.
● Untuk mengetahui klasifikasi bahaya secara lengkap, peraturan transportasi, dan-prosedur pertolongan pertama, lihat dokumen resmi SDS.
Jaminan Kualitas
Setiap batch Asam Fluorida G4 diproduksi, dimurnikan, dan diperiksa sesuai dengan standar semikonduktor internasional SEMI G4. Setiap pengiriman disertai dengan COA resmi khusus batch. Seluruh proses produksi dan pengisian mengadopsi kontrol kontaminasi-ruangan bersih yang ketat dan manajemen proses-tahan korosi, memastikan kemurnian ultra-tinggi dan kualitas stabil untuk memenuhi persyaratan ketat proses manufaktur basah semikonduktor canggih.
Tag populer: bahan kimia elektronik g4 asam fluorida (bahan kimia basah semikonduktor), Cina bahan kimia elektronik g4 asam fluorida (bahan kimia basah semikonduktor), pemasok, pabrik

